O grafeno é um filme planar de favo de mel formado por hibridação sp2 de átomos de carbono. É um material quase bidimensional com apenas uma espessura de camada atômica, por isso também é chamado de grafite de camada monoatômica. Como um dos mais novos nanomateriais considerados os mais finos, mais fortes e mais condutivos e termicamente condutivos, o grafeno é chamado de "ouro negro" e é o "rei dos novos materiais". Os cientistas chegam a prever que o grafeno "mudará completamente o século 21". É muito possível desencadear uma nova tecnologia revolucionária e uma nova revolução industrial que varreu o mundo.


Método de preparação de grafeno
● Método de peeling mecânico: O método de peeling mecânico é um método de obtenção de uma camada fina de material de grafeno, utilizando fricção e movimento relativo entre um objeto e grafeno. Este método é simples de operar e o grafeno resultante normalmente mantém uma estrutura cristalina completa. Em 2004, dois métodos científicos no Reino Unido usaram fita transparente para descascar grafite natural para obter grafeno, que também foi classificado como método de peeling mecânico.
Desvantagens: Este método já foi considerado ineficiente na produção e incapaz de industrializar a produção em massa.
● Método Redox: O método redox é oxidar grafite natural usando um reagente químico, como ácido sulfúrico ou ácido nítrico, um agente oxidante, como permanganato de potássio ou peróxido de hidrogênio, para aumentar o espaçamento entre as camadas de grafite e inserir um óxido entre a camada de grafite e a camada. , óxido de grafite (óxido de grafite) foi obtido. Em seguida, o reagente foi lavado com água e o sólido lavado foi seco a baixa temperatura para se obter um pó de óxido de grafite. O pó de óxido de grafite é descascado por um método como peeling físico ou expansão a alta temperatura para obter óxido de grafeno. Finalmente, o óxido de grafeno é reduzido por um método químico para obter grafeno (RGO).
Desvantagens: Este método é simples de operar, alto rendimento, mas a qualidade do produto é baixa. O método redox usa um ácido forte, como o ácido sulfúrico ou o ácido nítrico, que tem um grande risco, e deve ser lavado com uma grande quantidade de água, com uma grande poluição ambiental.
● (SiC) SiC epitaxy: SiC epitaxy é para sublimar átomos de silício fora do material em um ambiente de alta temperatura de vácuo ultra-alto, e os átomos de C restantes são reconstruídos por auto-montagem para obter grafite com base em substrato de SiC. Alkene
Desvantagens: Este método pode obter grafeno de alta qualidade, mas este método requer equipamento superior.
Produção de grafeno ultrassônico
Ultra-som refere-se a ondas sonoras com uma frequência superior a 20.000 Hz. Cavitação ultra-sônica refere-se à propagação de ondas ultra-sônicas em estado líquido, o que irá gerar fortes ondas de pressão no líquido. Essas ondas de pressão formarão milhões de bolhas microscópicas, com alta frequência de vibração. As bolhas crescerão rapidamente e, de repente, se fecharão. Quando as bolhas são fechadas, uma forte onda de choque é gerada devido à colisão entre os líquidos e milhares de pressões atmosféricas (isto é, cavitação ultrassônica) são geradas em torno das bolhas. Isso resulta em uma forte ação de cisalhamento no topo do chifre, que por sua vez promove uma série de mudanças físicas e químicas. Esfoliação ultra-sônica de grafite para preparar grafeno é misturar uniformemente pó de grafite e agente de intercalação em um solvente orgânico e, em seguida, usar um banho de água ultra-sônico para decapagem por um determinado período de tempo, separação centrífuga e filtração para obter um material de grafeno. A preparação ultra-sônica de equipamentos de dispersão de grafeno tem as vantagens de alta qualidade, excelente desempenho, poucos defeitos e baixo teor de impureza. Em particular, o método é um processo físico completo para garantir o perfeito desempenho do grafeno.
Poder | 1000W | 1500W | 2000W | 3000W |
Freqüência | 20 Khz | |||
Amplitude / faixa de ajuste de potência | 50 a 100% | 20 a 100% | ||
Temperatura | < 300 ℃ | |||
Volume de reator | 5-100L | |||
Especificação padrão | Aparelho ultra-sônico + Gerador Digital | |||
Configuração opcional | Reator de aço inoxidável, Interface de comunicação remota, medidor de fluxo, bomba, misturador mecânico | |||
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